產地：英國
品牌：牛津
應用于納米結構和器件工程，通過提供遙感等離子體原子層沉積（ALD）工藝和熱ALD工藝，在單一系統內實現了：
1. 選擇材料和源的靈活性，
2. 低溫工藝，所以可以使用等離子體ALD
3. 利用遙感等離子實現低損傷
4. 通過程序控制的軟件界面實現可控的，可重復的工藝
ALD應用舉例：
1. 納電子
2. 高k柵極氧化物
3. 存儲電容器絕緣層
4. 銅連線間的高縱橫比擴散阻擋層
5. OLED和聚合物中的無孔鈍化層
6. 鈍化晶體硅太陽能電池
7. 微流體和MEMS中的高保形涂料
8. 納米孔結構涂層
9. 生物微機電系統
10.燃料電池
如需了解更詳細的設備信息，敬請與我們聯系。
