產地：英國
品牌：SPTS
該系統處理模塊具有較高靈活性，并刻蝕廣泛的材料，包括氧化物，氮化物，聚合物，低縱橫比Si和金屬。該模塊廣泛適用于化合物半導體應用市場。
1. 設計具有雙等離子體源和獨立控制的一級和二級系統，擁有獨立的雙進氣系統，從而形成一個高濃度和均勻分布的工藝反應區高刻蝕速率及優良的均勻性
2. 高刻蝕速率及優良的均勻性
3. 有效控制晶圓的傾斜深度特征
4. 固有的靈活性允許互補型氧化物在相同硬件配置下刻蝕
5. 提供較高的生產效率和良好的工藝能力
典型材料
Si，SiO2 (including deep oxide etch >100 μm)，Glass，SiNx，SiC，GaN，PZT and AlN，Al2O3，GaAs，GaN，SixNy，BCB and Polyimide
主要應用市場：TSV, MEMS, RF-IC, Power Devices, LED
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